在《全彩设备》的四条新线,全面上马的时候,《光电科研》的另一个项目,也悄悄启动了。
甘肃省平凉县,某研究所。
“所长,光电科研的小成,给我们打了一个电话,询问1.5微米光刻机的事情。”
“咦?他们的lcd产线,要用到这么高精度的光刻机了吗?”
作为《精密光机》的股东之一,研究所对光电及其下属的全彩,动向还是十分了解的。
国内的半导体设备行业,在这段时间全都吃了个饱。但也有个别细分行业是例外。光刻机这个细分行业就是其中之一。
lcd用大尺寸低精度光刻机,都被《精密光机》给截留了。研究所在92年,只能靠一些led行业升级订单维持,与去年的热闹景象,完全不能比较了。
看着兄弟单位红红火火的局面,要说不羡慕是不可能的。接到了消息,大家本能的反应就是,我们的机会来了啊!
《精密光机》毕竟底蕴不足,从10微米,步进到5微米,已经是他们在短短一年时间里能取得的最大成就。
“不是的。他们想上一条小规模的晶圆厂,主要目的是生产lcd驱动芯片。这条产线的技术指标是2微米,3寸晶圆。”
“噢。这样啊。没有问题啊。”
1.5微米的光刻机,研究所85年就开发出来了,技术非常成熟。
虽然有些失望,但有总比没有好。这两年,除了led和lcd产业产生的额外订单以外,真正来自半导体本身的订单,是少之又少。它甚至少到,都快被大家遗忘的程度了。
————————
“他还在问我们的0.8微米光刻机是否可以在93年面世。”
“他们这是准备做什么?为什么要问0.8微米光刻机的事情?”
研究所也有后续精度光刻机的研发计划,但受困于资金,进展始终不快。从85年算起,到现在7年了,升级换代产品一直没有出来。
不过随着时间的推移,技术也在慢慢进步,0.8微米的光刻机,已经看见曙光。大家努努力,还是有可能在93年面世。(原历史,94年面世)
“他说,光电有个技术进步路线图,他不仅仅是要上0.8微米,而且希望在94年,最迟95年能看到0.5微米光刻机。”
“这根本不可能!这不是开玩笑吗?他以为光刻机是什么?”
“我跟他说了,但他一直坚持。就是这个时间做不到,也要我们给出一个预计时间。”
秘书也不是什么不懂。不合理的东西,早顶回去了。
“这怎么给?没有钱,怎么做研发?下次他再打电话,告诉他,他要是投钱给我们,我们就帮他做研发。”
“小成提出了一个建议,就是我们两家合作,一起开发高精度光刻机。”
“怎么个合作法?”
“他的建议是,把我们的光刻机开发团队,并入《精密光机》。这个团队可以折合成公司股份。”
这支光刻机开发团队,是国内最强的一支技术团队,以它为骨干,于2002年,在上海成立了smee。
如果这个团队可以加盟《精密光机》,后续的一系列计划都有了实施的基础。
“就这些?”
所长并没有直接回答,而是在思考。研究所与《精密光机》一直有合作,已经有不少同事,被派去冰城工作了。
《精密光机》在过去的一年多时间里的发展,大家有目共睹。由于lcd产业链的滋养,这些派驻人员的工资,福利,比留在甘肃苦熬的留守人员强多了。
这种对比,也挺伤士气的。
派出去的都是二流人员。但这些人员在异地生根发言,一年来成果不断,在lcd光刻机领域,大放光芒。而留守的核心技术人员,由于资金不足,只能日复一日的浪费人生。
“小成经理还说了,如果我们同意这个合作开发光刻机的计划,他们会把一部分lcd光刻机订单转移给我们。”
————————
成都,光电所
众人在会议室,研究光电传过来的需求。
“我们的1.25微米光刻机,可以实用了吗?”
光电所的ioe1010g直接分步重复投影光刻机,工作分辨率1.25微米,于1990年通过国家验收。
“应该可以。”
“给他们回函吧。”
“他们提出来的合作请求呢?”
“再考虑考虑。”
————————
林大半导体系
“李校长,我们这边收到了一个合作开发请求。想问一下你的意见。”
“是关于什么的?”